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  1. 学術雑誌論文
  2. 洋雑誌

Effects of substrate temperature on structure and mechanical properties of sputter deposited fluorocarbon thin films

https://kitami-it.repo.nii.ac.jp/records/8469
https://kitami-it.repo.nii.ac.jp/records/8469
767ce7ae-602d-4762-be2a-6ba162a5511e
名前 / ファイル ライセンス アクション
No_8_Vacuum_87_218.pdf No_8_Vacuum_87_218.pdf (2.2 MB)
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2016-09-08
タイトル
タイトル Effects of substrate temperature on structure and mechanical properties of sputter deposited fluorocarbon thin films
言語 en
言語
言語 eng
キーワード
主題Scheme Other
主題 Rf sputtering
キーワード
主題Scheme Other
主題 Thin film
キーワード
主題Scheme Other
主題 PTFE
キーワード
主題Scheme Other
主題 Fluorocarbon
キーワード
主題Scheme Other
主題 Adhesion strength
資源タイプ
資源 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
タイプ journal article
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
著者 Suzuki, Yuta

× Suzuki, Yuta

en Suzuki, Yuta

Search repository
Fu, Haojie

× Fu, Haojie

en Fu, Haojie

Search repository
Abe, Yoshio

× Abe, Yoshio

en Abe, Yoshio

Search repository
Kawamura, Midori

× Kawamura, Midori

en Kawamura, Midori

Search repository
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 44879
識別子Scheme KAKEN
識別子URI https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000020261399
識別子 20261399
姓名 阿部, 良夫
言語 ja
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 44880
識別子Scheme KAKEN - 研究者検索
識別子URI https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070261401
識別子 70261401
姓名 川村, みどり
言語 ja
姓名 Kawamura, Midori
言語 en
姓 川村
言語 ja
姓 Kawamura
言語 en
名 みどり
言語 ja
名 Midori
言語 en
識別子Scheme ISNI
識別子URI https://www.isni.org/isni/
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Fluorocarbon thin films were formed by radio-frequency magnetron sputtering using a polytetrafluoroethylene target with different substrate temperatures in the range −5 to 200 °C. Using X-ray diffraction and Fourier transform infrared spectroscopy, it was confirmed that the films were amorphous and contained C–F bonds. X-ray photoelectron spectroscopy measurements indicated that the amount of cross-linking in the films increased with increasing substrate temperature. Corresponding to the change in the molecular structure, the adhesion strength of the films to the Si substrate, estimated by micro-scratch testing, improved with increasing substrate temperature.
書誌情報 en : Vacuum

巻 87, p. 218-221, 発行日 2013-01
DOI
識別子タイプ DOI
関連識別子 https://doi.org/10.1016/j.vacuum.2012.05.029
権利
権利情報 c 2012 Elsevier
出版者
出版者 Elsevier
著者版フラグ
言語 en
値 author
出版タイプ
出版タイプ AM
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_ab4af688f83e57aa
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Ver.1 2021-03-01 06:31:13.074168
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