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  1. 学術雑誌論文
  2. 洋雑誌

Effects of thermal treatment on structure and electrical properties of sputtered Ir-W alloy thin films

https://kitami-it.repo.nii.ac.jp/records/6900
https://kitami-it.repo.nii.ac.jp/records/6900
6f378bee-9a10-4a59-85f0-10c9c3a45b4f
名前 / ファイル ライセンス アクション
4604.pdf 4604.pdf (352.1 kB)
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2007-04-19
タイトル
タイトル Effects of thermal treatment on structure and electrical properties of sputtered Ir-W alloy thin films
言語 en
言語
言語 eng
資源タイプ
資源 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
タイプ journal article
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
著者 Abe, Yoshio

× Abe, Yoshio

en Abe, Yoshio

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Watanabe, Eiji

× Watanabe, Eiji

en Watanabe, Eiji

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Sasaki, Katsutaka

× Sasaki, Katsutaka

en Sasaki, Katsutaka

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Iura, Shigemi

× Iura, Shigemi

en Iura, Shigemi

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著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 44879
識別子Scheme KAKEN
識別子URI https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000020261399
識別子 20261399
姓名 阿部, 良夫
言語 ja
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 34903
姓名 佐々木, 克孝
言語 ja
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Thermally and chemically stable electrode films are required for capacitor electrodes of semiconductor memories, such as dynamic random access memories (DRAMs) and ferroelectric random access memories (FeRAMs). In this study, iridium-tungsten (Ir-W) alloy thin films were prepared on SiO_2/Si substrates by RF magnetron sputtering, and the effects of thermal treatment in oxygen atmosphere on the structural and electrical properties of the films were studied. The surface of the as-deposited Ir-W films was very smooth and the films showed low electrical resistivities below 120 μΩcm. The resistances and the smooth surface morphology of the Ir-W (approximately 20 at.%) films remained after thermal treatment up to 600°C in oxygen, which indicates the high thermal stability of the Ir-W alloy thin films.
書誌情報 Surface and Coatings Technology

巻 198, 号 1-3, p. 148-151, 発行日 2005-08
DOI
識別子タイプ DOI
関連識別子 http://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2004.10.037
権利
権利情報 http://www.sciencedirect.com/science/journal/02578972
権利
権利情報 Elsevier B.V., Yoshio Abe, Eiji Watanabe, Katsutaka Sasaki and Shigemi Iura, Surface and Coatings Technology, 198(1-3), 2005, 148-151.
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
出版者
出版者 Elsevier
言語 en
著者版フラグ
言語 en
値 author
出版タイプ
出版タイプ AM
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_ab4af688f83e57aa
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Ver.1 2021-03-01 06:24:07.653626
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