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  1. 学術雑誌論文
  2. 洋雑誌

Effects of total gas flow rate and sputtering power on the critical condition for target mode transition in Al?O2 reactive sputtering

https://kitami-it.repo.nii.ac.jp/records/7495
https://kitami-it.repo.nii.ac.jp/records/7495
79f63283-9fbd-4cb6-b9e1-5c26e3075e73
名前 / ファイル ライセンス アクション
Vacuum_84_629_Chiba.pdf Vacuum_84_629_Chiba.pdf (325.8 kB)
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2011-02-03
タイトル
タイトル Effects of total gas flow rate and sputtering power on the critical condition for target mode transition in Al?O2 reactive sputtering
言語 en
言語
言語 eng
キーワード
主題Scheme Other
主題 reactive sputtering
キーワード
主題Scheme Other
主題 plasma emission intensity
キーワード
主題Scheme Other
主題 target voltage
キーワード
主題Scheme Other
主題 gettering effect
資源タイプ
資源 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
タイプ journal article
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
著者 Chiba, Y

× Chiba, Y

en Chiba, Y

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Abe, Y

× Abe, Y

en Abe, Y

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Kawamura, M

× Kawamura, M

en Kawamura, M

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Sasaki, K

× Sasaki, K

en Sasaki, K

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Reactive sputtering is one of the most commonly used techniques for the fabrication of compound thin films, and the critical condition for target mode transition from metal mode to oxide mode is very important. We investigated the effects of total gas flow rate and sputtering power on the critical condition in Al-O2 reactive sputtering. It was found that the ratio of the number of sputtered Al atoms (NAl) to the number of supplied O atoms (NO) at the critical condition was almost constant, and the ratio of NAl to NO was close to the stoichiometric ratio of Al2O3 (2 to 3). It is thought that the introduced oxygen is gettered by Al atoms almost completely and the target remains in the metal mode below the critical condition. By increasing the amount of supplied O atoms above the stoichiometric ratio of Al2O3, the oxygen supply overcomes the gettering effect. Then, oxygen concentration in the plasma increases abruptly and the target mode changes from metal mode to oxide mode.
書誌情報 Vacuum

巻 84, 号 5, p. 629-632, 発行日 2009-10
DOI
識別子タイプ DOI
関連識別子 http://doi.org/10.1016/j.vacuum.2009.06.024
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
出版者
出版者 Elsevier
言語 en
著者版フラグ
言語 en
値 author
出版タイプ
出版タイプ AM
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_ab4af688f83e57aa
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Ver.1 2021-03-01 06:26:31.366104
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