WEKO3
アイテム / Influence of oxygen flow ratio on the oxidation of Ti target and the formation process of TiO_2 films by reactive sputtering / 4655
4655
ファイル | ライセンス |
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4655.pdf (7.6 MB) sha256 c5b9a6f2978623d41a24df4b42d4bbe3d74c592d668f92fe34fdf1615884be0d |
公開日 | 2007-04-19 | |||||
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ファイル名 | 4655.pdf | |||||
本文URL | https://kitami-it.repo.nii.ac.jp/record/6906/files/4655.pdf | |||||
ラベル | 4655.pdf | |||||
フォーマット | application/pdf | |||||
サイズ | 7.6 MB |
Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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