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  1. 学術雑誌論文
  2. 洋雑誌

Target surface oxide layer formed by reactive sputtering of Ti target in Ar+O_2 mixed gas

https://kitami-it.repo.nii.ac.jp/records/6827
https://kitami-it.repo.nii.ac.jp/records/6827
cab8619f-7b43-4949-a274-0d45b426032d
名前 / ファイル ライセンス アクション
4284.pdf 4284.pdf (83.8 kB)
Item type 学術雑誌論文 / Journal Article(1)
公開日 2007-04-17
タイトル
タイトル Target surface oxide layer formed by reactive sputtering of Ti target in Ar+O_2 mixed gas
言語 en
言語
言語 eng
資源タイプ
資源 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
タイプ journal article
アクセス権
アクセス権 open access
アクセス権URI http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
著者 Abe, Yoshio

× Abe, Yoshio

en Abe, Yoshio

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Takamura, Kenji

× Takamura, Kenji

en Takamura, Kenji

Search repository
Kawamura, Midori

× Kawamura, Midori

en Kawamura, Midori

Search repository
Sasaki, Katsutaka

× Sasaki, Katsutaka

en Sasaki, Katsutaka

Search repository
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 44879
識別子Scheme KAKEN
識別子URI https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000020261399
識別子 20261399
姓名 阿部, 良夫
言語 ja
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 44880
識別子Scheme KAKEN - 研究者検索
識別子URI https://nrid.nii.ac.jp/ja/nrid/1000070261401
識別子 70261401
姓名 川村, みどり
言語 ja
姓 川村
言語 ja
名 みどり
言語 ja
識別子Scheme ISNI
識別子URI https://www.isni.org/isni/
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 34481
姓名 佐々木, 克孝
言語 ja
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Reactive sputtering is one of the most widely used techniques for preparing compound thin films. In this study, a Ti model target, a 1 μm thick Ti film sputter deposited on a Si wafer, was used as the sputtering target. The thickness of the oxide layer formed on the surface of the model target after sputtering in an Ar+O_2 mixed gas atmosphere was measured by ellipsometry under various varying processing parameters including oxygen flow ratio, sputtering time, rf power, and total gas pressure. The oxide layer thickness was varied from a few nanometers to approximately 100 nm by changing the parameters, and a nonuniform oxide layer thickness was observed on the target surface.
書誌情報 Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films

巻 23, 号 5, p. 1371-1374, 発行日 2005-09
DOI
識別子タイプ DOI
関連識別子 http://doi.org/10.1116/1.2006135
権利
権利情報 The following article appeared in Yoshio Abe, Kenji Takamura, Midori Kawamura, and Katsutaka Sasaki, Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films, 23(5), 1371-1374, (2005) and may be found at http://scitation.aip.org/getabs/servlet/GetabsServlet?prog=normal&id=JVTAD6000023000005001371000001&idtype=cvips&gifs=Yes.
権利
権利情報 Copyright 2005 American Institute of Physics. This article may be downloaded for personal use only. Any other use requires prior permission of the author and the American Institute of Physics.
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
出版者
出版者 American Institute of Physics
言語 en
著者版フラグ
言語 en
値 publisher
出版タイプ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
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Ver.1 2021-03-01 06:23:33.855477
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