@article{oai:kitami-it.repo.nii.ac.jp:00007415, author = {山根, 美佐雄 and 関, 光 and 佐々木, 克孝 and 野矢, 厚 and 白重, 道弘}, issue = {8}, journal = {電子情報通信学会論文誌}, month = {Aug}, note = {Ta2N化合物薄膜の陽極酸化膜を用いることにより,450℃まで特性の劣化しない耐熱性に優れた薄膜キャパシタを実現できた。このことは,Taと化学結合を形成している窒素原子が,酸素拡散に対してより有効な抑制効果を果たすことによるものと推察された。, Copyright (c) by IEICE 許諾番号:09RC0076 IEICE Transactions Online : http://search.ieice.org/index.html, application/pdf}, pages = {6--8}, title = {Ta2N 陽極酸化膜による耐熱性に優れた薄膜キャパシタの作製}, volume = {J76-C-II}, year = {1993} }