@article{oai:kitami-it.repo.nii.ac.jp:00007414,
 author = {田邊, 彩 and 山根, 美佐雄 and 佐々木, 克孝 and 阿部, 良夫},
 issue = {10},
 journal = {電子情報通信学会論文誌},
 month = {Oct},
 note = {容量の低減を伴わずTa陽極酸化膜キャパシタの耐熱性を改善するため，Al3Ta金属間化合物膜を作製し，その陽極酸化膜キャパシタの耐熱性を評価した。その結果，容量の低減をTaの値の2割程度までに抑制したまま，Ta2N陽極酸化膜キャパシタに次ぐ，高耐熱な薄膜キャパシタとなることがわかった。, Copyright (c) by IEICE 
許諾番号：09RC0077
IEICE Transactions Online :
http://search.ieice.org/index.html, application/pdf},
 pages = {972--974},
 title = {Aｌ3Ta陽極酸化膜キャパシタの作製とその耐熱性},
 volume = {J83-C},
 year = {2000}
}