WEKO3
アイテム / Influence of oxygen flow ratio on the oxidation of Ti target and the formation process of TiO_2 films by reactive sputtering / 4655
4655
| ファイル | ライセンス |
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 4655.pdf (7.6 MB)
sha256
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| 公開日 | 2016-11-22 | |||||
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| ファイル名 | 4655.pdf | |||||
| 本文URL | https://kitami-it.repo.nii.ac.jp/record/6906/files/4655.pdf | |||||
| ラベル | 4655.pdf | |||||
| フォーマット | application/pdf | |||||
| サイズ | 7.6 MB | |||||
| Version | Date Modified | Object File Name | File Size | File Hash Value | Contributor Name | Show/Hide |
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