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  1. 紀要掲載論文
  2. 北見工業大学研究報告
  3. Vol.7

高周波四極スパッタリングによるTi-SiO_2系 : サーメット薄膜の電気的特性

https://kitami-it.repo.nii.ac.jp/records/6392
https://kitami-it.repo.nii.ac.jp/records/6392
aac7e5da-cfa4-42ac-88f9-c367a67fddd9
名前 / ファイル ライセンス アクション
7-2-3.pdf 7-2-3.pdf (5.5 MB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2007-04-09
タイトル
タイトル 高周波四極スパッタリングによるTi-SiO_2系 : サーメット薄膜の電気的特性
言語 ja
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
タイプ departmental bulletin paper
その他のタイトル
その他のタイトル Electrical Properties of Ti-SiO_2 Cermet Thin Films : Prepared by R. F. Plasma Sputtering
言語 en
著者 梅沢, 利二

× 梅沢, 利二

WEKO 32417

ja 梅沢, 利二

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井垣, 誠吾

× 井垣, 誠吾

WEKO 32418

ja 井垣, 誠吾

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著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 32419
姓名 UMEZAWA, Toshiji
言語 en
著者別名
識別子Scheme WEKO
識別子 32420
姓名 IGAKI, Seigo
言語 en
抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 Ti-SiO_2 cermet thin films were deposited onto a glass substrate by R. F. sputtering from a Ti-SiO_2 composite target, on which the SiO_2 area ratio was varied to obtain different compositions.   The cermet thin films sputtered from the target composed of 16% SiO_2-84% Tiarea ratios showed a resistivity of 220±10μΩ-cm and a temperature coefficient of nearly zero   The thin films sputtered from the target given a greater SiO_2 area ratio than 16% showed negative temperature coefficient of resistance (TCR), and those from the target given a smaller SiO_2 area ratio showed positive TCR values.   The study on the electrical conduction in these cermet thin films suggested that the mechanism by a capillary model was dominant for the films with positive TCRs and the mechanism by a thermally agitated hopping process was predominant for the films with negative TCRs.
言語 en
書誌情報 ja : 北見工業大学研究報告

巻 7, 号 2, p. 275-288, 発行日 1976-06
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
著者版フラグ
言語 en
値 publisher
出版者
出版者 北見工業大学
言語 ja
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Ver.1 2021-03-01 06:53:01.471904
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